NANO 15臭氧發生器用ALD（原子層沉積）系統
ALD（原子層沉積）系統中使用臭氧發生器的配置通常是為了生成高純度的臭氧氣體，用于特定的化學反應，特別是在需要氧源的沉積過程中。以下是一個典型的ALD系統中臭氧發生器的配置介紹：
1. NANO15臭氧發生器
板式臭氧發生器：通過電暈放電過程將氧氣轉換為臭氧，適用于需要大量臭氧的場合。臭氧濃度可達10%。體積小，適合集成在機器內。
2. 配置組件
臭氧發生器主體：負責生成臭氧的核心設備。
氧氣源：通常使用高純度氧氣作為原料（純度通常為99.99%以上）。
冷卻系統：用于冷卻臭氧發生器，防止設備過熱。
臭氧濃度監測器：實時監測生成的臭氧濃度，確保其符合ALD系統的要求。
流量控制器：控制進入ALD系統的臭氧流量，保持穩定的反應環境。
3. 連接與集成
氣體管道：將生成的臭氧從發生器輸送到ALD反應室。
真空系統：確保ALD反應室內的壓力環境適合臭氧的引入。
控制系統：集成在ALD系統的整體控制系統中，協調臭氧發生器與其他設備的工作。
通過上述配置，ALD系統能夠高效、安全地利用臭氧進行沉積過程，確保生成的高質量薄膜滿足特定應用的需求。
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